tgindex
А

АО НИИТМ

Статистика
@NIITM_officialрусский

Официальный канал АО НИИТМ. НИИТМ – лидер в области разработки и производства специального технологического оборудования для микроэлектроники. Входит в ГК «Элемент». RUTUBE: https://rutube.ru/channel/33240250/videos Маркетинг и PR: marketing@niitm.ru

Последний пост
12 авг.
Последнее чтение
ещё не заходили
Постов за неделю
1
Всего постов
45
Тип
открытый
Язык
русский
В каталоге с
12 авг.
Подписчики
192
0 за 6 дн.
Сутки
0
0,00%
Неделя
 
Месяц
 
Просмотров на пост
293
40 постов
Вовлечённость
152,6%
к подписчикам
Постов в день
0,1
всего 45
Упоминаний
2
каналов
Охват размещения
оценка
1/24сутки в ленте
83
1/48двое суток
95
1/72трое суток
102

Оценка по просмотрам недавних постов: пост набирает почти всё за первые сутки.

Посты

  • 🚀 НИИТМ представит оборудование для микроэлектронной отрасли на выставке CSEAC 2026 🗓️ С 31 августа по 2 сентября 2026 года команда НИИТМ при поддержке Департамента станкостроения и тяжелого машиностроения Минпромторга России примет участие в выставке полупроводникового оборудования CSEAC 2026 в рамках коллективного стенда, где продемонстрирует российские достижения электронного машиностроения на международной площадке. ✨ 14-я выставка CSEAC 2026 пройдёт в Международном выставочном центре Уси Тайху в городе Уси, Китай. На площади 60 000 кв.м. свои экспонаты продемонстрируют порядка 1300 китайских и зарубежных компаний-участников. Масштабная деловая программа, включающая в себя более 20 мероприятий, станет важной частью выставки. 🔬 На стенде B4-840 Минпромторга РФ посетители выставки смогут ознакомиться с совместной экспозицией ведущих российских компаний в сфере микроэлектроники, среди которых АО НИИТМ, АО «МНТЦ МИЭТ», АО «НИИМЭ», АО «ЗНТЦ» и другие. Представители нашей компании будут демонстрировать два 3D-макета оборудования разработки и производства НИИТМ в масштабе 1:10: кластерный комплекс плазмохимического травления для обработки пластин диаметром до 300 мм и оборудование ионной имплантации для обработки пластин диаметром 200 мм. 📢 31 августа в зале B4 выставочного центра Уси Тайху пройдет конференция, посвященная разработкам российских компаний в сфере собственного оборудования, материалов, химических процессов и инструментов проектирования для производителей полупроводниковой продукции. В рамках делового мероприятия наше предприятие представит доклад по технологическим платформам кластерного типа для обработки пластин до 300 мм. @NIITM_official | #НИИТМ_события

  • 🤩 АО НИИТМ, входящее в ГК «Элемент» (MOEX: ELMT), – ведущее российское предприятие полного цикла разработки и производства промышленного и исследовательского технологического оборудования для микроэлектронной отрасли. НИИТМ – один из ключевых разработчиков и значимый исполнитель комплексной программы «Развитие электронного машиностроения до 2035 года». Сейчас институт разрабатывает кластерный комплекс нанесения слоёв алюминиевой металлизации методом вакуумного напыления на пластинах диаметром 200 мм. 🤩 На Российском форуме «Микроэлектроника 2026» представители компании примут участие в научной конференции «ЭКБ и микроэлектронные модули» в секции №9 «Электронное машиностроение» и продемонстрируют новую разработку на выставке. Также на базе секции №9 будет организован круглый стол «Актуальные вопросы развития отечественного электронного машиностроения». Его участники обсудят текущее состояние и перспективы развития направления в контексте реализации комплексной программы «Развитие электронного машиностроения до 2035 года». Модераторами круглого стола выступят Бирюков Михаил Георгиевич (АО НИИТМ) и Алексеев Алексей Николаевич (АО «НТО»). 🤩 На стенде №82 выставки команда НИИТМ представит опытный образец SMIF-загрузчика полупроводниковых пластин собственной разработки. Модуль соответствует стандартам SEMI и предназначен для применения в составе технологического оборудования для автоматизации загрузки-выгрузки пластин диаметром 200 мм с использованием SMIF-контейнера. SMIF-загрузчик можно использовать как в составе оборудования НИИТМ, так и в качестве замены импортных аналогов.  АО НИИТМ – партнёр Российского форума «Микроэлектроника 2026» 🤩 Мы в MAX #ФорумМикроэлектроника #Партнер #НИИТМ

  • 📍 ШЕСТОЙ ВЫПУСК БЮЛЛЕТЕНЯ АНАЛИТИЧЕСКОЙ ИНФОРМАЦИИ 📢 Представляем вашему вниманию новый выпуск бюллетеня, посвящённый полупроводниковым пластинам и специальным подложкам для микроэлектроники. 📊 На основе данных SEMI и Yole Group мы проанализировали текущее состояние мирового рынка пластин, технологические тренды и динамику цен. Особое внимание уделено оборудованию для полного цикла производства пластин — от выращивания монокристаллов до финишной очистки. 📌 В выпуске вы узнаете: 🔹 историю развития технологий производства пластин и переход к 300-мм формату 🔹 какие материалы сегодня используются в микроэлектронике 🔹 тренды мирового рынка пластин и оборудования для их производства 🇷🇺 Особое место в выпуске отведено российским разработкам: 🔹 интервью с техническим директором компании ЛАССАРД Николаем Николаевичем Алленовым 🔹 обзор российских разработок оборудования 📰 Традиционно завершает выпуск дайджест отраслевых новостей за апрель–июнь 2026 года. Оставайтесь с нами — впереди ещё много интересного!

  • 8 авг.132251

    Сегодня 👍👍👍👍 исполняется 6️⃣4️⃣ года! ✨ С момента создания в 1962 году наше предприятие обеспечивает технологическим оборудованием отечественные производства ЭКБ, сохраняя и приумножая научно-технические компетенции. Весь этот длинный путь отмечен многочисленными достижениями в разработке передовых для каждого временного отрезка решений для микроэлектронной отрасли. ⚙️ В настоящее время АО НИИТМ является ведущим предприятием по полному циклу разработки и производства промышленного и исследовательского технологического оборудования. Компания осуществляет поставку вакуумно-плазменных и физико-термических установок, а также кластерных комплексов на их основе, для реализации технологических процессов нано-, микро- и радиоэлектроники, медицины, солнечной энергетики. 🏗️НИИТМ вносит весомый вклад в импортозамещение и технологическую безопасность государства. Сегодня при поддержке Минпромторга России в рамках реализации комплексной программы «Развитие электронного машиностроения до 2035 года» наше предприятие самостоятельно и в кооперации с партнёрами проводит целый ряд разработок. Среди них: создание серии промышленных установок для ионной имплантации с проектной топологической нормой 90 нм; изготовление двух установок для проведения процессов химического осаждения из газовой фазы; разработка установки групповой высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин. В этом году также стартовали работы по созданию кластерной установки для магнетронного нанесения слоёв алюминиевой металлизации. Все эти важные задачи невозможно было бы решить без коллектива предприятия – специалистов, чей профессионализм и преданность делу позволяют создавать инновационное оборудование для микроэлектроники. В эту важную для нас дату мы благодарим команду НИИТМ за их вклад в развитие предприятия и отечественного электронного машиностроения! 🚀 Талантливые и трудолюбивые сотрудники, надёжные партнёры, постоянные и новые заказчики, поддержка отрасли государством позволяют НИИТМ из года в год повышать объём разработок, уровень компетенций и с уверенностью смотреть в будущее! @NIITM_official | Наше сообщество ВК

  • 7 авг.204215

    📢Мы подготовили для вас новый 3D-видеоролик, рассказывающий о том, каким НИИТМ встречает своё 64-летие: современным предприятием с богатой историей, сильными научной и инженерной школами и уверенным взглядом в будущее! ✨ Желаем вам приятного просмотра! @NIITM_official | Посмотреть на нашем канале RUTUBE

  • 5 авг.427168

    ⚙️ В НИИТМ разработали компактную версию установки Эпиквар ТМ – Эпиквар ТМ Мини. Новая разработка также предназначена для изготовления эпитаксиальных структур и осаждения поликремния на пластины диаметром 76 и 100 мм и рассчитана на задачи мелкосерийного производства и проведение научных исследований. 🚀 Среди основных преимуществ Эпиквар ТМ Мини: 🔴уменьшенные габариты и масса установки; 🔴сниженное энергопотребление не более 80 кВт, что позволяет сократить себестоимость производства; 🔴более доступная стоимость по сравнению с Эпиквар ТМ. ✨ Установка Эпиквар ТМ Мини позволяет обрабатывать одновременно 24 пластины диаметром 76 мм или 12 пластин диаметром 100 мм. Диапазон рабочих температур от 300 до 1250 ºС. Оборудование позволяет проводить технологический процесс как в автоматическом, так в ручном режиме. Узнать о том, какую установку – Эпиквар ТМ или Эпиквар ТМ Мини – вам следует выбрать, можно, отправив ваше ТЗ на marketing@niitm.ru. Наши специалисты подберут для вас оптимальное решение и помогут определить конфигурацию оборудования с учётом ваших потребностей и задач. @NIITM_official | Новость на сайте | Наше сообщество ВК

  • 31 июл.5542111

    ⚙️ НИИТМ изготовил и поставил заказчику установку эпитаксии из твёрдого источника Эписэнд ТМ. 🏗️ Эписэнд ТМ входит в линейку оборудования выращивания эпитаксиальных структур ЭПИ ТМ и предназначен для нанесения сверхтолстых слоёв поликристаллического кремния методом «сэндвич»-эпитаксии. Установка обеспечивает индукционный ВЧ-нагрев до 1300 градусов Цельсия. 🚀 Преимущества: 🔴 Высокое качество получаемых поликристаллических слоёв. 🔴Большая производительность за счет одновременной обработки до 4-х пластин диаметром 100 мм. 🔴Модернизированная двухпозиционная система загрузки на 2 лодочки (каждая с графитовой платформой). 🔴Усовершенствованный дизайн для повышения удобства эксплуатации и обслуживания установки. 🔴Экологичность и безопасность оборудования благодаря жидкостному скрубберу производства НИИТМ для нейтрализации отработанных продуктов и уменьшения вредных выбросов в атмосферу. 🔴Возможность встраивания в чистую комнату. ➡️ Узнайте больше о линейках специального технологического оборудования НИИТМ.   Подбор оборудования: 1️⃣Отправьте ТЗ на почту marketing@niitm.ru. 2️⃣Получите индивидуальное решение под задачи вашего производства или лаборатории. @NIITM_official | Новость на сайте | Наше сообщество ВК

  • 🚀 Поиск новых научно-технических решений при разработке перспективного оборудования для микроэлектронной отрасли – это важная составляющая работы специалистов НИИТМ. Такие решения всегда базируются на результатах прикладных научных исследований и опытно-конструкторских работ. 📢Одним из последних таких решений стала оптическая система контроля окончания процесса травления (система Endpoint) на основе оптико-эмиссионной спектрометрии (OES). Программно-аппаратный комплекс позволяет реализовать наиболее точный способ проведения технологической операции путём определения момента окончания процесса для перехода на стадию «перетрава» с низкой скоростью травления для достижения наилучших результатов. В основу работы системы легли данные, полученные при измерении излучения ВЧ-плазмы в широком диапазоне от УФ до ИК – эти исследования были проведены сотрудниками НИИТМ совместно с учёными отдела микроэлектроники НИИЯФ МГУ имени М. В. Ломоносова. Система Endpoint была впервые реализована НИИТМ при разработке и изготовлении технологических модулей кластерного комплекса ПХТ (плазмохимического травления) для обработки пластин диаметром до 300 мм (подробнее об этом оборудовании вы можете прочитать на нашем сайте: НИИМЭ и НИИТМ первыми в России разработали оборудование для техпроцесса 65-нм на пластинах до 300 мм). В рамках этой ОКР при поддержке Минпромторга России сотрудники НИИТМ разработали программное обеспечение и его алгоритмы, а также провели испытания. ⚙️ По завершении этого проекта программно-аппаратный комплекс начала и окончания процесса травления начали внедрять в том числе в серийное оборудование предприятия: например, он был интегрирован в установку плазмохимического травления оксида кремния ПЛАЗМА ТМ 7, а также предлагается заказчикам в качестве дополнительной опции для всех установок линейки оборудования ПЛАЗМА ТМ. @NIITM_official | #НИИТМ_разработки

  • без подписи

  • ⚙️ Установка ПЛАЗМА ТМ 7 отгружена заказчику АО НИИТМ завершило поставку заказчику вакуумной установки плазмохимического травления оксида кремния ПЛАЗМА ТМ 7. 🏗️ ПЛАЗМА ТМ 7 входит в линейку оборудования плазмохимического травления диэлектрических слоёв и полупроводниковых материалов ПЛАЗМА ТМ. 🚀 Преимущества: 🔴Адаптивность: может быть применена для обработки пластин диаметром 100-150 мм без сложной перенастройки транспортного робота 🔴Универсальность – подходит для широкого спектра производственных процессов 🔴Высокая герметичность рабочей камеры 🔴Стабильность работы в агрессивных средах 🔴Повышенная точность и воспроизводимость благодаря встроенной оптической системе определения окончания процесса травления. ✨ Установка гарантирует высокую степень надёжности в сочетании с высокой скоростью травления оксида кремния (SiO₂) от 300 нм/мин.   ✅ В зависимости от выбора эксплуатационных газов возможно травление различных материалов:   🔴нитрид кремния (Si₃N₄) 🔴поликремний (poly-Si) 🔴монокристаллический кремний (mono-Si)   ➡️ Узнайте больше о линейках специального технологического оборудования НИИТМ.   Подбор оборудования: 1️⃣Отправьте ТЗ на почту marketing@niitm.ru. 2️⃣Получите индивидуальное решение под задачи вашего производства или лаборатории. @NIITM_official | Новость на сайте | Наше сообщество ВК

  • 9 июл.247173

    ✨ С 5 по 11 июля в Бурятии, на озере Байкал, проходит VIII Международный Крейнделевский семинар «Плазменная эмиссионная электроника». 🔬 Научная программа семинара включает в себя заседания трех тематических секций: «Физические процессы в генераторах плазмы, эмиссионные свойства плазмы, вопросы генерации и формирования электронных и ионных пучков», «Генераторы плазмы, электронных и ионных пучков и оборудование на их основе» и «Новые процессы и технологии модификации поверхности материалов, основанные на применении электронных и ионных пучков и газоразрядной плазмы». 🗓️ 8 июля в рамках заседания секции «Генераторы плазмы, электронных и ионных пучков и оборудование на их основе» начальник лаборатории ионной имплантации и кандидат физико-математических наук Никита Мамедов представил доклад «Характеристики источника ионов алюминия для установок ионной имплантации». В работе отражены результаты разработки и экспериментальных исследований прототипа источника ионов алюминия на основе магнетронного разряда, предназначенного для применения в составе высоковольтных установок ионной имплантации для технологии карбида кремния (SiC). @NIITM_official | #НИИТМ_события

  • 8 июл.232102

    ✨ Ведущий специалист по охране окружающей среды Вам предстоит обеспечивать экологическое сопровождение деятельности предприятия, включая контроль за выполнением требований природоохранного законодательства РФ, ведение отчетности и взаимодействие с контролирующими органами. 👉 Откликнуться   ⚙️ Слесарь по ремонту и обслуживанию систем вентиляции и кондиционирования В ваши обязанности будет входить ежемесячный осмотр систем вентиляции, обеспечение бесперебойной работы вентиляционного оборудования и кондиционеров, включая их обслуживание и ремонт. 👉 Откликнуться   🏭 Рабочий по комплексному обслуживанию зданий Вы будете отвечать за техническое обслуживание помещений, проведение ремонтных и профилактических работ в помещениях, поддержание надлежащего состояния инженерных коммуникаций и конструктивных элементов здания. 👉 Откликнуться   Присоединяйтесь к команде НИИТМ! Все актуальные вакансии, а также контактные данные отдела управления персоналом указаны в разделе «Вакансии» на нашем сайте @NIITM_official|#НИИТМ_карьера #вакансии

  • 1 июл.257131

    🚀 Мы запустили новый раздел "Патенты" на нашем сайте! В нём представлены действующие патенты АО НИИТМ на изобретения и полезные модели. Раздел будет пополняться по мере получения новых патентов. ➡️ Посмотреть

  • без подписи

  • без подписи

  • без подписи

  • без подписи

  • без подписи

  • 👀 Заглянем на Школу проектирования ПИШ МИЭТ? Ребята продолжают посещать занятия по схемотехнике и 3D-моделированию, а вчера побывали на экскурсии на двух предприятиях Зеленограда: АО НИИТМ и НТЦ Эллинс, на которой узнали больше об электронном машиностроении и производстве электронной компонентной базы. ⚡️ Впереди — насыщенная программа и еще больше интересных лекций и мастер-классов!

  • 🤩🤩🤩🤩 Секция №9 научной конференции переименована в «Электронное машиностроение» Прежнее название – «Специальное технологическое оборудование» С этой инициативой выступил руководитель секции – генеральный директор АО НИИТМ М. Г. Бирюков.   Решение прежде всего продиктовано развитием отрасли: тематика секции значительно расширилась, а новое название секции точнее отражает её содержание, соответствует современным отраслевым стандартам и стратегическим приоритетам развития электронной промышленности России. Обновление названия секции является частью общей стратегии по модернизации конференции и Форума в целом и позволит расширить профессиональный диалог, объединив на одной площадке производителей и поставщиков оборудования, разработчиков новых технологий, представителей науки, вузов и инвесторов. До встречи на Российском форуме «Микроэлектроника 2026» на секции №9 «Электронное машиностроение»! 🤩 Подробнее 🤩 Мы в MAX #ФорумМикроэлектроника #Микроэлектроника2026